Un procédé utilisé pour appliquer des matériaux semi-conducteurs photovoltaïque à un substrat par un processus de dépôt physique en phase gazeuse où les ions à haute énergie sont utilisées pour bombarder des sources élémentaires de matériau semi-conducteur, qui éjectent les vapeurs des atomes qui sont ensuite déposés en couches minces sur un substrat.